Bể rửa siêu âm thông minh 3 tần số 40kHz/80kHz/120kHz Rama R3F

Khi yêu cầu về độ sạch bề mặt không còn dừng lại ở mức “sạch” mà vươn tới cấp độ “vi mô” và “an toàn tuyệt đối”, Rama R3F ra đời như một câu trả lời. Đây là dòng bể rửa siêu âm thông minh, thế hệ tiên tiến nhất của Rama, được thiết kế đặc biệt cho các ứng dụng đòi hỏi sự kiểm soát và độ chính xác ở mức cao nhất.

Trái tim của Rama R3F là hệ thống siêu âm 3 tần số đột phá 40kHz, 80kHz và 120kHz, cho phép người dùng tinh chỉnh quy trình làm sạch đến mức độ chưa từng có.

Tùy chỉnh 3 Tần số

Mỗi tần số trên Rama R3F đại diện cho một cấp độ làm sạch khác nhau, cho phép người dùng tiếp cận mọi vật liệu và vết bẩn một cách khoa học và hiệu quả.

1. Tần số 40kHz – Nền tảng làm sạch mạnh mẽ, toàn diện

• Cơ chế: Đây là tần số “tiêu chuẩn vàng” trong ngành, tạo ra các bọt khí xâm thực với năng lượng cân bằng, đủ mạnh để loại bỏ hiệu quả các chất bẩn thông thường.
• Ứng dụng: Lý tưởng để xử lý các vết bẩn phổ biến như dầu mỡ, bụi bẩn công nghiệp, mạt kim loại trên các chi tiết cơ khí, dụng cụ… Đây là bước làm sạch cơ bản và hiệu quả cho phần lớn các ứng dụng không quá nhạy cảm.

2. Tần số 80kHz – Làm sạch chi tiết và bề mặt nhạy cảm

• Cơ chế: Tần số cao hơn tạo ra các bọt khí nhỏ hơn và mật độ dày đặc hơn. Lực tác động của chúng nhẹ nhàng hơn nhưng có khả năng len lỏi sâu hơn vào các cấu trúc phức tạp.
• Ứng dụng: Hoàn hảo để làm sạch các vật thể có nhiều khe rãnh, lỗ mù, hoặc các bề mặt dễ bị tổn thương. Thường được dùng cho các bo mạch điện tử phức tạp, dụng cụ y tế có nhiều chi tiết, các bộ phận cơ khí chính xác.

3. Tần số 120kHz – Cấp độ làm sạch vi mô, an toàn tuyệt đối

• Cơ chế: Ở tần số cực cao này, các bọt khí được tạo ra có kích thước siêu nhỏ, tạo ra hiệu ứng xâm thực cực kỳ nhẹ nhàng, gần như một dòng chảy vi mô tác động lên bề mặt.
• Ứng dụng: Đây là tần số chuyên dụng cho các vật liệu và sản phẩm tinh xảo, đắt tiền nhất, nơi mà việc bảo toàn bề mặt là ưu tiên hàng đầu.
  • Làm sạch thấu kính quang học, lăng kính, cảm biến máy ảnh.
  • Tẩy rửa các tấm wafer bán dẫn, linh kiện vi điện tử.
  • Vệ sinh các bộ phận đồng hồ cao cấp, chi tiết hàng không vũ trụ.
  • Làm sạch dụng cụ phòng thí nghiệm siêu nhạy.

Đa dạng dung tích, mở rộng khả năng ứng dụng

Dòng Rama R3F cung cấp dải dung tích rộng từ 4.5L đến 30L, đảm bảo công nghệ làm sạch 3 tần số có thể đáp ứng mọi quy mô công việc.

• Dung tích nhỏ (4.5L – 6.5L): Lý tưởng cho phòng thí nghiệm, phòng khám, hoặc xưởng sửa chữa nhỏ. Phù hợp để làm sạch các linh kiện điện tử, dụng cụ y tế, nha khoa, và các chi tiết chính xác.
• Dung tích trung bình (10L – 15L): Dành cho các xưởng cơ khí hoặc dây chuyền sản xuất quy mô vừa. Kích thước này hiệu quả để xử lý các bộ phận máy móc, khuôn mẫu nhỏ, hoặc làm sạch đồng thời nhiều bộ dụng cụ.
• Dung tích lớn (22L – 30L): Hướng đến môi trường công nghiệp, cho phép làm sạch theo lô với năng suất cao, phù hợp cho các rổ linh kiện lớn hoặc các chi tiết máy cồng kềnh.

Thông số kỹ thuật

Ứng dụng chuyên sâu của bể rửa siêu âm 3 Tần số Rama R3F

Bể rửa siêu âm Rama R3F không phải là một thiết bị làm sạch thông thường. Với khả năng vận hành ở ba tần số 40kHz, 80kHz, và 120kHz, nó được thiết kế như một công cụ chính xác, nhắm đến các ngành công nghiệp và lĩnh vực nghiên cứu có yêu cầu khắt khe nhất về độ sạch bề mặt.

Dưới đây là các ứng dụng thực tế nơi Rama R3F phát huy tối đa sức mạnh của mình:

1. Ngành bán dẫn và vi mạch điện tử (Semiconductors & Electronics)

• Thách thức: Cần loại bỏ các hạt bụi siêu nhỏ (sub-micron particles), dư lượng quang cản (photoresist residue), và chất trợ hàn (flux) khỏi các tấm wafer silicon, bảng mạch in (PCB) mật độ cao, và các linh kiện vi điện tử mà không gây ra bất kỳ tổn thương vật lý nào cho bề mặt hoặc các mạch nối mỏng manh.
• Giải pháp của R3F:
  • Tần số 80kHz: Được sử dụng để làm sạch hiệu quả các bảng mạch sau khi hàn, loại bỏ chất trợ hàn khỏi các khu vực có mật độ linh kiện cao và dưới gầm các con chip BGA.
  • Tần số 120kHz: Là lựa chọn tối quan trọng để làm sạch cuối cùng các tấm wafer bán dẫn và các linh kiện siêu nhạy. Sóng siêu âm cực kỳ nhẹ nhàng này loại bỏ các hạt ô nhiễm vi mô mà không gây ra hiện tượng rỗ bề mặt (pitting) hay phá vỡ các cấu trúc nano.

2. Y tế, nha khoa & dụng cụ chính xác

• Thách thức: Các dụng cụ phẫu thuật, thiết bị nội soi, cấy ghép y tế (implant), và dụng cụ nha khoa đòi hỏi độ sạch tuyệt đối, không chỉ sạch về mặt vật lý mà còn phải đạt chuẩn an toàn sinh học. Các bề mặt có ren vít, lỗ rỗng, hoặc kết cấu phức tạp là nơi vi khuẩn và cặn bẩn dễ tích tụ nhất.
• Giải pháp của R3F:
  • Tần số 40kHz: Dùng cho giai đoạn đầu để loại bỏ các chất bẩn hữu cơ thô như máu khô, mô, hoặc xi măng nha khoa trên các dụng cụ bằng thép không gỉ.
  • Tần số 80kHz: Làm sạch sâu vào các khớp nối, ren vít và các kênh hẹp của dụng cụ nội soi, đảm bảo không còn sót lại cặn bẩn nào.
  • Tần số 120kHz: Lý tưởng để làm sạch các bộ phận cấy ghép tinh vi (implant titan, implant nha khoa) và các dụng cụ vi phẫu, đảm bảo bề mặt hoàn toàn sạch và tương thích sinh học trước khi đưa vào công đoạn khử trùng cuối cùng.

3. Ngành quang học và chế tác cao cấp

• Thách thức: Bề mặt của thấu kính máy ảnh, lăng kính, cảm biến, và các bộ phận đồng hồ cao cấp cực kỳ nhạy cảm. Dấu vân tay, dầu mỡ, bụi và các hợp chất đánh bóng cần được loại bỏ hoàn toàn mà không làm trầy xước bề mặt hay tổn hại đến các lớp phủ quang học (anti-reflection coatings).
• Giải pháp của R3F:
  • Tần số 80kHz: Nhẹ nhàng loại bỏ dấu vân tay và các chất bẩn nhẹ khỏi bề mặt kính quang học và các bộ phận kim loại đã được gia công tinh.
  • Tần số 120kHz: Là lựa chọn duy nhất cho giai đoạn làm sạch cuối cùng, đảm bảo độ trong suốt hoàn hảo cho thấu kính, không để lại bất kỳ vệt hay dư lượng nào, bảo toàn tuyệt đối các lớp phủ mỏng manh.

4. Phòng thí nghiệm và nghiên cứu & phát triển (R&D)

• Thách thức: Trong nghiên cứu khoa học, các dụng cụ thủy tinh (pipet, ống nghiệm) và các bộ phận của thiết bị phân tích cần phải sạch ở cấp độ phân tử để đảm bảo kết quả thí nghiệm không bị sai lệch do nhiễm bẩn chéo.
• Giải pháp của R3F:
  • Chu trình đa tầng: Có thể lập trình một quy trình tự động, bắt đầu bằng 40kHz để rửa các chất bẩn thông thường, sau đó chuyển qua 80kHz và 120kHz để đạt được độ sạch cấp độ phân tích, sẵn sàng cho các thí nghiệm nhạy cảm nhất.

Ứng dụng của Rama R3F không chỉ dừng ở việc “rửa sạch”, mà là “xử lý và hoàn thiện bề mặt”. Nó là công cụ không thể thiếu cho bất kỳ quy trình sản xuất hay nghiên cứu nào mà ở đó, một hạt bụi nhỏ cũng có thể gây ra những sai sót lớn.